真空器皿產品及廠家
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。
更新時間:2024-12-27
pi真空烘箱用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產。主要用于pi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纖維熱處理。
更新時間:2024-12-27
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